一、反应物料的静电释放造成的搪玻璃设备搪玻璃瓷层的损坏：
         大家都知道任何物体接触面上的电荷是等量、符号相反的，所以整体看接触面是中性的。当两个物体相摩擦即至少有一种物体是绝缘体时，接触面上的相对运动产生了电荷转移，都会产生静电。当有电荷向绝缘材料转移时，会产生电荷积累，电荷积累达到一定的电压时，就会有静电释放的发生，静电的产生和积累是同时的,电荷积累电压较高能达到50000-100000V，而这正体现在搪玻璃反应釜搪玻璃设备中，反应釜在物料反应的过程中在设备的内壁搪瓷层很容易产生静电，然而反应物料的静电释放很容易造成搪玻璃设备搪玻璃瓷层的损坏。
        搅拌绝缘液体、添加粉末以及蒸馏塔内液体物料流动冲击塑料填料都能有电荷积累、静电释放的发生。搪玻璃设备的瓷层是绝缘的，但是绝缘体绝缘是有一定限度的，当电压足够高时，作为绝缘体的瓷层就会被击穿而导电，此时瓷层依然有效，当电压更高时，导电电流随之增大，静电放电处瓷层会被瞬间产生的高温融化。静电释放对瓷层的破坏犹如烧损，瓷层出现一块块表面光滑的深坑，不是爆瓷，除去深坑外瓷层有时还出现微孔，这些微孔有的能延伸到钢铁面上，造成瓷层防护失效。当有易燃气体时静电释放还能引起火灾、爆炸。使用高压电火花测试仪对搪玻璃设备瓷层检测时，电压过高也能造成瓷层类似静电释放形成的损坏。

二、目前对于搪玻璃设备静电释放有哪些措施
1、评估绝缘溶液或添加粉末，导致电火花的潜在可能；
2、降低搪玻璃反应釜设备的搅拌速度；
3、通过内伸管加入液体，可使其从液面以下加入；
4、混合水或可溶性添加剂以增加溶液导电率
5、在气相空间加入惰性气体（氮气）以防爆炸；

三、搪玻璃设备的静电穿刺
        搪玻璃反应釜内搅拌带有悬浮物的液体，悬浮物与搪瓷强烈的磨擦，同时悬浮物自身也产生磨擦，这样就产生大量的静电荷，高的静电荷对搪瓷产生强烈的穿刺作用，从而导致搪瓷点蚀，因此搅拌转速不宜太快。

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